OLS · RESIDUAL CHECK
残差诊断实验室
同一条回归线可能掩盖完全不同的问题。切换数据场景,先观察散点与拟合,再去残差图里寻找被“平均数”藏起来的结构。
可复现样本
# 401
选择数据场景
调节随机扰动的幅度,数据仍由当前样本编号确定
含截距 OLS 拟合公式
ŷ = —
MAE
—
RMSE
—
R²
—
① 数据与普通最小二乘拟合
横轴:特征 x · 纵轴:真实值 y② 残差 vs 拟合值
横轴:预测值 ŷ · 纵轴:残差 e当前点 #—
特征 x—
真实值 y—
预测值 ŷ—
残差 e = y − ŷ—
鼠标悬停可临时检查;点击会锁定该观测,再次点击空白处可取消。键盘聚焦图表后,用 ← / → 切换观测。
✓ 结构检查
残差没有明显系统结构
点云大致围绕零线随机散开,线性形式暂时合理。下一步仍应检查高杠杆点、残差正态性,以及在验证集上的误差是否稳定。
⚠ R² 只描述样本中线性模型解释了多少变异;即使 R² 很高,弧形、漏斗、孤立点或顺序波动仍表示模型假设可能不成立。