OLS · RESIDUAL CHECK

残差诊断实验室

同一条回归线可能掩盖完全不同的问题。切换数据场景,先观察散点与拟合,再去残差图里寻找被“平均数”藏起来的结构。

可复现样本 # 401
选择数据场景
1.0× 调节随机扰动的幅度,数据仍由当前样本编号确定
含截距 OLS 拟合公式
ŷ = —
MAE
RMSE

① 数据与普通最小二乘拟合

横轴:特征 x · 纵轴:真实值 y
观测值 OLS 拟合线

② 残差 vs 拟合值

横轴:预测值 ŷ · 纵轴:残差 e
e = y − ŷ 零残差基线
当前点 #—
特征 x
真实值 y
预测值 ŷ
残差 e = y − ŷ

鼠标悬停可临时检查;点击会锁定该观测,再次点击空白处可取消。键盘聚焦图表后,用 ← / → 切换观测。

✓ 结构检查

残差没有明显系统结构

点云大致围绕零线随机散开,线性形式暂时合理。下一步仍应检查高杠杆点、残差正态性,以及在验证集上的误差是否稳定。

⚠ R² 只描述样本中线性模型解释了多少变异;即使 R² 很高,弧形、漏斗、孤立点或顺序波动仍表示模型假设可能不成立。